| 试题内容 |
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去)：
(1)C分子中所含官能团名称为______________。 (2)乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3∶2∶1，E能发生水解反应，则E的结构简式为__________________。 (3)由C到D的反应类型为____________。 (4)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为_____________________________。 (5)C的一种同分异构体满足下列条件： ①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应； ②苯环上的一氯取代产物只有两种。 写出该同分异构体的结构简式： __________________________________________________。 (6)根据已有知识并结合相关信息，写出以
|
| 答案解析 |
|
【答案】 (1)碳碳双键、羧基 (2)CH3COOCH (4)
(5) (6)2CH3CHO稀NaOHCH3CH ①银氨溶液、②H＋CH3CH CH3CHBrCHBrCOOH稀NaOH
【解析】 A是苯甲醛，与乙醛发生已知Ⅰ的反应生成B的结构简式为 (5)C的一种同分异构体满足下列条件：①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；说明该分子中含有与苯环直接相连的酯基，且该酯基是甲酸苯酯基；②苯环上的一氯取代产物只有两种，说明该分子中有2个对位取代基，根据C中的取代基，确定其同分异构体中的两个取代基只能是—OOCH、—CH===CH2，所以符合题意的C的同分异构体的结构简式为 (6)根据已知，乙醛制备CH3COCOCOOH的合成路线应是两分子乙醛发生已知Ⅰ的反应生成，与弱氧化剂反应被氧化为，与溴发生加成反应，得到 ，水解得到 |
| 所属考点 |
高分子化合物 有机合成与推断高分子化合物 有机合成与推断知识点包括高分子化合物的定义、有机高分子的组成、高分子化合物的分类、合成高分子化合物的两个基本反应、有机合成的分析方法和原则、合成路线的选择、利用性质推断有机物等部分，有关高分子化合物 有机合成与推断的详情如下：高分子化合物的定义相对分子质量从几万到十几万甚至更大的化合物，称为高分子化合物，简称高分子。大部分高分子化合物是由小分子通过聚合反 |
| 录入时间：2021-03-08 13:40:14 |
为原料制备
的合成路线流程图(无机试剂任用)。合成路线流程图示例如下：
CH2 (3)取代反应
，B被银氨溶液氧化经酸化后生成C，则C的结构简式为
；C与SOCl2发生取代反应生成D；乙炔与羧酸X发生加成反应生成E，E中有4个碳原子，所以X是乙酸，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3∶2∶1，E能发生水解反应，所以E中含有酯基，则E的结构简式为CH3COOCH===CH2，E发生加聚反应生成F，G与D发生已知Ⅱ的反应生成光刻胶。
。
，
在Cu作催化剂加热条件下与氧气反应生成